今日，聯(lián)發(fā)科官方宣布，聯(lián)發(fā)科首款采用臺積電3nm工藝的天璣旗艦芯片開發(fā)順利，日前已成功流片，預(yù)計2024年下半年上市，將成為聯(lián)發(fā)科最強5G Soc。
據(jù)悉，臺積電3nm擁有更強性能、功耗、良率，相較5nm工藝，3nm工藝的邏輯密度增加約60%，在相同功耗下速度提升18%，或在相同速度下功耗降低32%。
在今年7月的季度財務(wù)會議上，臺積電CEO魏哲家透露，去年底開始量產(chǎn)的N3 3nm工藝，已完全通過驗證，性能、良品率都達(dá)到了預(yù)期目標(biāo)。
臺積電3nm工藝第一代為N3B，技術(shù)上很先進(jìn)很復(fù)雜，應(yīng)用多達(dá)25個EUV光刻層，還有雙重曝光，從而達(dá)到更高的晶體管密度，這也致使價格更貴。
第二代則是N3E，EUV光刻層減少到19個，去掉雙重曝光，會便宜不少，更適合主流產(chǎn)品。
值得一提的是，iPhone 15系列下周就要發(fā)布了，其中iPhone 15 Pro/Pro Max機(jī)型將升級蘋果A17處理器，將首發(fā)臺積電3nm工藝，芯片表現(xiàn)如何，值得期待。
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