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我國(guó)在近幾年來(lái)發(fā)展迅速，各類高新產(chǎn)業(yè)迎來(lái)蓬勃發(fā)展的階段，在人工智能、5G通信技術(shù)、航空航天等等領(lǐng)域都足以與國(guó)際一流水平比肩，甚至在某些方面已經(jīng)超越歐美一些西方國(guó)家。然而，隨著老美對(duì)我國(guó)的半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)實(shí)行了“斷供”之后，我國(guó)半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)“缺芯少魂”的問(wèn)題也暴露出來(lái)。

芯片產(chǎn)業(yè)作為高新產(chǎn)業(yè)必不可少的運(yùn)行核心，已經(jīng)成為各國(guó)爭(zhēng)相發(fā)展的目標(biāo)。當(dāng)今的科技之爭(zhēng)，可以說(shuō)誰(shuí)能最先掌握芯片產(chǎn)業(yè)的主導(dǎo)權(quán)，誰(shuí)就把控住當(dāng)今科技發(fā)展的命脈。

老美除了在芯片代工上對(duì)我國(guó)實(shí)行“斷供”之外，在制造芯片所必需的光刻設(shè)備上老美也對(duì)我國(guó)實(shí)行了出貨限制。

在老美的一系列封鎖下，不僅臺(tái)積電無(wú)法為我們提供芯片代工，ASML（阿斯麥）也無(wú)法對(duì)我們自由出貨。

芯片代工被限制我們可以自己生產(chǎn)，但生產(chǎn)芯片所必要的光刻設(shè)備被攔截，那就真是巧婦難為無(wú)米之炊了。

要知道，作為全球最頂尖的光刻設(shè)備制造商，ASML公司占全球光刻設(shè)備市場(chǎng)份額的75%以上，EUV光刻機(jī)的制造更是由于其供應(yīng)鏈的特殊性形成了壟斷地位。是的，全球只有ASML能制造出EUV光刻機(jī)。

早在三年前，中芯國(guó)際就曾斥資10億向ASML全款訂購(gòu)了一臺(tái)EUV光刻機(jī)，但由于老美修改了“芯片規(guī)則”，這EUV臺(tái)光刻機(jī)至今為止仍未能在我國(guó)境內(nèi)落地。

我國(guó)如今已經(jīng)成為全球規(guī)模最大的芯片消費(fèi)市場(chǎng)，我國(guó)的芯片需求占全球50％以上，集成電路進(jìn)口總額占我國(guó)進(jìn)口總額高達(dá)16%，僅在去年一年我國(guó)芯片進(jìn)口量就多達(dá)6354.8億枚，耗資近4400億美元，折合成人民幣約29550億元，這個(gè)數(shù)字令人咂舌。

我國(guó)在今年第一季度占ASML的出貨占比升至34%，成為第一大市場(chǎng)，在第一季度ASML向我國(guó)出貨了23臺(tái)光刻機(jī)。雖然最先進(jìn)的EUV無(wú)法向我國(guó)出貨，但是DUV光刻機(jī)還是可以自由出貨的。

國(guó)產(chǎn)光刻再進(jìn)一步取得突破

對(duì)于我國(guó)半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)所面臨的困境，我國(guó)多家企業(yè)意識(shí)到自研的重要性，紛紛加大在半導(dǎo)體領(lǐng)域的布局。如華為在芯片被斷供后就宣布全面進(jìn)入半導(dǎo)體領(lǐng)域，旗下子公司哈勃就投資了許多國(guó)內(nèi)的半導(dǎo)體相關(guān)企業(yè)。

此外，自研出芯片堆疊技術(shù)，并公布了“芯片堆疊封裝結(jié)構(gòu)及其封裝方法、電子設(shè)備”專利。

近日我國(guó)光刻設(shè)備再傳捷報(bào)，根據(jù)浙江省稅務(wù)局網(wǎng)站消息，浙江啟爾機(jī)電技術(shù)有限公司在浸潤(rùn)系統(tǒng)上進(jìn)一步取得了技術(shù)突破。其高端集成電路裝備已經(jīng)迭代至第8代，能夠?qū)崿F(xiàn)對(duì)液體溫度的高精度控制，將誤差控制在正負(fù)0.001度以內(nèi)。

自04年開始，啟爾機(jī)電研發(fā)團(tuán)隊(duì)對(duì)光刻機(jī)浸液系統(tǒng)的基礎(chǔ)研究和技術(shù)攻關(guān)已經(jīng)進(jìn)行了十余年，掌握與光刻機(jī)浸液系統(tǒng)直接相關(guān)的發(fā)明專利56項(xiàng)。

光刻機(jī)被稱為現(xiàn)代光學(xué)工業(yè)之花，制造工藝相當(dāng)復(fù)雜，而浸液系統(tǒng)就是浸沒(méi)式光刻機(jī)的四大核心部件之一，這項(xiàng)技術(shù)在很長(zhǎng)時(shí)間以來(lái)一直為少數(shù)國(guó)際巨頭企業(yè)所掌握，如今啟爾機(jī)電的技術(shù)突破可以說(shuō)進(jìn)一步為我們的光刻機(jī)國(guó)產(chǎn)化打下了基礎(chǔ)。

我國(guó)光刻機(jī)的突破進(jìn)行到哪步了

要實(shí)現(xiàn)光刻機(jī)國(guó)產(chǎn)化，主要看曝光光學(xué)系統(tǒng)、激光器、物鏡、雙工件臺(tái)、浸液系統(tǒng)以及高速高精度檢測(cè)系統(tǒng)這六大核心部件和技術(shù)上是否突破。

除了啟爾機(jī)電這次的浸液系統(tǒng)，我國(guó)在光刻核心技術(shù)上已經(jīng)實(shí)現(xiàn)了多項(xiàng)關(guān)鍵性突破，分別是國(guó)望光學(xué)的投影物鏡、國(guó)科精密的曝光光學(xué)系統(tǒng)、華卓精科的雙工件臺(tái)、東方晶源高速高精度檢測(cè)系統(tǒng)以及科益宏源的ArF準(zhǔn)分子激光器。

其中國(guó)望光學(xué)光刻機(jī)曝光系統(tǒng)生產(chǎn)基地項(xiàng)目也已經(jīng)建設(shè)完成，宣布啟動(dòng)設(shè)備導(dǎo)入階段，預(yù)計(jì)在2023 年投入運(yùn)行，為28nm 及以下節(jié)點(diǎn)極大規(guī)模 IC 制造投影光刻機(jī)曝光光學(xué)系統(tǒng)產(chǎn)品的研發(fā)、設(shè)計(jì)與批量生產(chǎn)供貨。

寫在最后

如今我們?cè)陉P(guān)鍵的技術(shù)領(lǐng)域基本已經(jīng)突破，剩下的就是磨合問(wèn)題，相信在國(guó)家的扶持和各科研機(jī)構(gòu)以及企業(yè)的共同努力下，我們的國(guó)產(chǎn)光刻機(jī)要突圍很快就能實(shí)現(xiàn)。

對(duì)于我們的國(guó)產(chǎn)光刻機(jī)即將突圍，大家有何想法，覺(jué)得我們的國(guó)產(chǎn)光刻機(jī)何時(shí)能推出商用，歡迎在評(píng)論區(qū)留下您的觀點(diǎn)一起交流。