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我國在近幾年來發(fā)展迅速，各類高新產(chǎn)業(yè)迎來蓬勃發(fā)展的階段，在人工智能、5G通信技術、航空航天等等領域都足以與國際一流水平比肩，甚至在某些方面已經(jīng)超越歐美一些西方國家。然而，隨著老美對我國的半導體產(chǎn)業(yè)實行了“斷供”之后，我國半導體產(chǎn)業(yè)“缺芯少魂”的問題也暴露出來。

芯片產(chǎn)業(yè)作為高新產(chǎn)業(yè)必不可少的運行核心，已經(jīng)成為各國爭相發(fā)展的目標。當今的科技之爭，可以說誰能最先掌握芯片產(chǎn)業(yè)的主導權，誰就把控住當今科技發(fā)展的命脈。

老美除了在芯片代工上對我國實行“斷供”之外，在制造芯片所必需的光刻設備上老美也對我國實行了出貨限制。

在老美的一系列封鎖下，不僅臺積電無法為我們提供芯片代工，ASML（阿斯麥）也無法對我們自由出貨。

芯片代工被限制我們可以自己生產(chǎn)，但生產(chǎn)芯片所必要的光刻設備被攔截，那就真是巧婦難為無米之炊了。

要知道，作為全球最頂尖的光刻設備制造商，ASML公司占全球光刻設備市場份額的75%以上，EUV光刻機的制造更是由于其供應鏈的特殊性形成了壟斷地位。是的，全球只有ASML能制造出EUV光刻機。

早在三年前，中芯國際就曾斥資10億向ASML全款訂購了一臺EUV光刻機，但由于老美修改了“芯片規(guī)則”，這EUV臺光刻機至今為止仍未能在我國境內落地。

我國如今已經(jīng)成為全球規(guī)模最大的芯片消費市場，我國的芯片需求占全球50％以上，集成電路進口總額占我國進口總額高達16%，僅在去年一年我國芯片進口量就多達6354.8億枚，耗資近4400億美元，折合成人民幣約29550億元，這個數(shù)字令人咂舌。

我國在今年第一季度占ASML的出貨占比升至34%，成為第一大市場，在第一季度ASML向我國出貨了23臺光刻機。雖然最先進的EUV無法向我國出貨，但是DUV光刻機還是可以自由出貨的。

國產(chǎn)光刻再進一步取得突破

對于我國半導體產(chǎn)業(yè)所面臨的困境，我國多家企業(yè)意識到自研的重要性，紛紛加大在半導體領域的布局。如華為在芯片被斷供后就宣布全面進入半導體領域，旗下子公司哈勃就投資了許多國內的半導體相關企業(yè)。

此外，自研出芯片堆疊技術，并公布了“芯片堆疊封裝結構及其封裝方法、電子設備”專利。

近日我國光刻設備再傳捷報，根據(jù)浙江省稅務局網(wǎng)站消息，浙江啟爾機電技術有限公司在浸潤系統(tǒng)上進一步取得了技術突破。其高端集成電路裝備已經(jīng)迭代至第8代，能夠實現(xiàn)對液體溫度的高精度控制，將誤差控制在正負0.001度以內。

自04年開始，啟爾機電研發(fā)團隊對光刻機浸液系統(tǒng)的基礎研究和技術攻關已經(jīng)進行了十余年，掌握與光刻機浸液系統(tǒng)直接相關的發(fā)明專利56項。

光刻機被稱為現(xiàn)代光學工業(yè)之花，制造工藝相當復雜，而浸液系統(tǒng)就是浸沒式光刻機的四大核心部件之一，這項技術在很長時間以來一直為少數(shù)國際巨頭企業(yè)所掌握，如今啟爾機電的技術突破可以說進一步為我們的光刻機國產(chǎn)化打下了基礎。

我國光刻機的突破進行到哪步了

要實現(xiàn)光刻機國產(chǎn)化，主要看曝光光學系統(tǒng)、激光器、物鏡、雙工件臺、浸液系統(tǒng)以及高速高精度檢測系統(tǒng)這六大核心部件和技術上是否突破。

除了啟爾機電這次的浸液系統(tǒng)，我國在光刻核心技術上已經(jīng)實現(xiàn)了多項關鍵性突破，分別是國望光學的投影物鏡、國科精密的曝光光學系統(tǒng)、華卓精科的雙工件臺、東方晶源高速高精度檢測系統(tǒng)以及科益宏源的ArF準分子激光器。

其中國望光學光刻機曝光系統(tǒng)生產(chǎn)基地項目也已經(jīng)建設完成，宣布啟動設備導入階段，預計在2023 年投入運行，為28nm 及以下節(jié)點極大規(guī)模 IC 制造投影光刻機曝光光學系統(tǒng)產(chǎn)品的研發(fā)、設計與批量生產(chǎn)供貨。

寫在最后

如今我們在關鍵的技術領域基本已經(jīng)突破，剩下的就是磨合問題，相信在國家的扶持和各科研機構以及企業(yè)的共同努力下，我們的國產(chǎn)光刻機要突圍很快就能實現(xiàn)。

對于我們的國產(chǎn)光刻機即將突圍，大家有何想法，覺得我們的國產(chǎn)光刻機何時能推出商用，歡迎在評論區(qū)留下您的觀點一起交流。