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    補上最后的技術(shù)拼圖,國產(chǎn)光刻機突破核心技術(shù),要跟ASML說再見了

    補上最后的技術(shù)拼圖,國產(chǎn)光刻機突破核心技術(shù),要跟ASML說再見了

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    導讀:補上最后的技術(shù)拼圖,國產(chǎn)光刻機突破核心技術(shù),要跟ASML說再見了

    眾所周知,在老美多次修改芯片規(guī)則以后,就讓芯片的重要性逐漸凸顯出來,如今整個科技領(lǐng)域的發(fā)展幾乎都離不開半導體芯片的支持,而我們要想不被人卡脖子發(fā)展,那么就必須要打造出屬于我們自己的國產(chǎn)芯片供應(yīng)鏈體系才行;在經(jīng)歷了華為事件以后,國內(nèi)就開始用舉國之力去發(fā)展半導體芯片產(chǎn)業(yè)!

    ASML光刻機被限制出貨

    要想打造出屬于我們自己的國產(chǎn)芯片供應(yīng)鏈體系,那么首先我們就要解決光刻機的難題才行,別看一顆小小的芯片只有指甲蓋大小,但是在芯片的內(nèi)部卻集成了上億個晶體管線路,而想要完成這些線路的部署,那么也只有先進的光刻機才能完成;目前全球領(lǐng)先的光刻機都被荷蘭ASML一家所壟斷,在老美的限制下,就算是我們有錢也無法從ASML手中買到最先進的EUV光刻機!

    補上最后的技術(shù)拼圖,國產(chǎn)光刻機突破核心技術(shù)

    在這種情況下,我們也只剩下了自主研發(fā)光刻機一條路可走,很快國內(nèi)的中科院、清華大學等機構(gòu)都展開了對光刻機等卡脖子技術(shù)的研發(fā),眼看著中國在光刻機領(lǐng)域快速的發(fā)展起來,ASML則表示:就算是公開光刻機的圖紙,中國也無法造出光刻機來,因為一臺先進的EUV光刻機含有10萬多個零部件;但盡管如此,也無法阻擋國內(nèi)研發(fā)光刻機的步伐,而且我們已經(jīng)補上了最后的技術(shù)拼圖,國產(chǎn)光刻機已經(jīng)突破核心技術(shù)!

    國內(nèi)掀起自主制造光刻機的浪潮

    在無法依靠ASML光刻機的前提下,國內(nèi)的眾多科技企業(yè)都開始抱團發(fā)展,并成立光刻機等卡脖子技術(shù)的攻關(guān)小組,而且最近在兩年在國內(nèi)半導體市場上,我們還逐漸掀起了一股自主制造光刻機和芯片的浪潮,我們相信只要國內(nèi)科技企業(yè)肯努力研發(fā),那么一定會取得突破!

    隨著國內(nèi)科技企業(yè)的不斷研發(fā)和突破,我們已經(jīng)在光刻機的核心技術(shù)光源、物鏡、雙工件臺等領(lǐng)域都取得了突破,而現(xiàn)在又傳來消息,我們在光刻機最核心的浸潤系統(tǒng)領(lǐng)域也突破了關(guān)鍵的核心技術(shù),國內(nèi)廠家啟爾機電已經(jīng)攻破了浸潤系統(tǒng)的關(guān)鍵技術(shù),可以實現(xiàn)誤差正負值為0.001度液體溫度的高精度控制,這一水平顯然已經(jīng)達到了國際頂尖水準,對此也有外媒表示:這是要跟ASML說再見了!

    如今光刻機所擁有的核心技術(shù)光源、物鏡、雙工件臺,以及浸潤系統(tǒng)我們都已經(jīng)取得了突破,這也意味著我們已經(jīng)補齊了光刻機的最后一塊技術(shù)拼圖,有了浸潤系統(tǒng)以后,我們就能打造出浸潤式光刻機,這對于國產(chǎn)半導體芯片產(chǎn)業(yè)的發(fā)展來說,意義也是重大的,盡管說我們在短時間里還無法突破最先進的EUV光刻機的技術(shù),但是有了國產(chǎn)光刻機我們能實現(xiàn)28nm成熟工藝芯片的生產(chǎn),那么在汽車等工業(yè)芯片領(lǐng)域我們也就不會在被卡脖子了,不知道對此你是怎么看的呢?

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