光刻機(jī)巨頭阿斯麥 ASML 今日公布了第二季度財(cái)務(wù)數(shù)據(jù)。
ASML 公告稱，截至 6 月 30 日的三個(gè)月，公司收入為 54.3 億歐元（約 374.67 億元人民幣），高于 2021 年同期的 40 億歐元；凈利潤為 14.1 億歐元（約 97.29 億元人民幣），高于去年同期的 10.4 億歐元。
ASML 表示，凈利潤較高的原因是新訂單量創(chuàng)歷史新高，因?yàn)楸M管有跡象表明銷售放緩，但該公司仍在盡可能快地向客戶運(yùn)送設(shè)備。
根據(jù)路孚特?cái)?shù)據(jù)，ASML 第二季度收入超過分析師預(yù)期的 52.8 億歐元，而利潤低于預(yù)期的 14.4 億歐元。
ASML 表示，利潤率受到了通脹成本上升的影響，此外，一些系統(tǒng)在荷蘭進(jìn)行全面測試之前就向客戶發(fā)貨，導(dǎo)致了延遲確認(rèn)收入，從而影響了收益。
我們了解到，ASML 主導(dǎo)著光刻系統(tǒng)市場，客戶包括所有主要芯片制造商，其中臺積電、三星和英特爾是幾大重要客戶。
ASML 公告還透露，公司的 EUV 高 NA 業(yè)務(wù)中，已收到了來自供應(yīng)商的第一臺高數(shù)值孔徑（High-NA）機(jī)械投影光學(xué)器件、光源以及新的晶圓載物臺。這些模塊將用于初始測試和集成，這是 EXE:5000 程序的重要一步。
此前據(jù) BusinessKorea 報(bào)道，三星已就引進(jìn)今年生產(chǎn)的 EUV 光刻設(shè)備和計(jì)劃于明年推出的 High-NA EUV 光刻設(shè)備達(dá)成了協(xié)議。High-NA EUV 是下一代光刻設(shè)備，與現(xiàn)有的 EUV 光刻設(shè)備相比，可以雕刻出更精細(xì)的電路，其被認(rèn)為是一個(gè)改變游戲規(guī)則的設(shè)備，將決定 3 納米以下代工市場技術(shù)競賽的贏家。
High-NA EUV 光刻設(shè)備的單價(jià)估計(jì)為 5000 億韓元（約 25.85 億元人民幣），是現(xiàn)有 EUV 光刻設(shè)備的兩倍。
ASML 首席執(zhí)行官 Peter Wennink 表示：“一些客戶在某些消費(fèi)者驅(qū)動的細(xì)分市場中顯示出需求放緩的跡象，但我們?nèi)匀豢吹綄ξ覀兿到y(tǒng)的強(qiáng)勁需求。雖然我們?nèi)杂?jì)劃在今年交付創(chuàng)紀(jì)錄數(shù)量的系統(tǒng)，但供應(yīng)鏈限制的增加導(dǎo)致出現(xiàn)了延遲。”
此外，ASML 本季度的凈預(yù)訂額為 84.6 億歐元（約 583.74 億元人民幣），創(chuàng)歷史新高。ASML 表示，預(yù)計(jì)將在今年晚些時(shí)候向市場通報(bào)到 2025 年大幅擴(kuò)大生產(chǎn)的可行性。該公司表示，由于快速發(fā)貨計(jì)劃，預(yù)計(jì) 2022 年價(jià)值約 18 億歐元的銷售額將推遲到 2023 年，這意味著 2022 年的銷售額增長將比先前估計(jì)的 20% 下降約 10%。
