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導(dǎo)讀：28nm！清華大學(xué)就國產(chǎn)光刻機(jī)正式發(fā)聲，倪光南院士沒說錯！

眾所周知，自從老美多次修改芯片規(guī)則以后，就直接打亂了全球芯片市場的發(fā)展規(guī)則，并讓我國的華為等科技企業(yè)的發(fā)展受到了很大的影響，這些年來，國內(nèi)科技企業(yè)的發(fā)展一直都依賴于從國外進(jìn)口的芯片，這也讓我們很容易被人卡脖子發(fā)展，為了避免被卡脖子，最近這幾年國內(nèi)也開始加快了國產(chǎn)化的芯片供應(yīng)鏈體系的建設(shè)！

ASML的光刻機(jī)無法自由出貨，倒逼著我們不得不加快國產(chǎn)光刻機(jī)的研發(fā)

而我們要想打造出屬于我們自己的國產(chǎn)芯片供應(yīng)鏈體系，那么首先要解決的就是光刻機(jī)這一卡脖子的難題，要知道，沒有先進(jìn)的光刻機(jī)，就無法生產(chǎn)出先進(jìn)的半導(dǎo)體芯片來；而在光刻機(jī)領(lǐng)域，又幾乎都被荷蘭ASML公司所壟斷，在老美的限制下，ASML公司的光刻機(jī)也無法做到自由出貨，所以這也倒逼著我們不得不加快國產(chǎn)光刻機(jī)的研發(fā)！

國內(nèi)在光刻機(jī)領(lǐng)域發(fā)展迅猛

實際上，在光刻機(jī)領(lǐng)域，我們并非是一片空白，國內(nèi)的上海微電子、清華大學(xué)和中科院都很早就展開了對光刻機(jī)等卡脖子技術(shù)的研發(fā)，隨著國內(nèi)機(jī)構(gòu)和科技企業(yè)的不斷努力研發(fā)，如今在光刻機(jī)領(lǐng)域，我們也迎來了一個又一個的好消息，像光刻機(jī)的物鏡和曝光系統(tǒng)供應(yīng)商國望光學(xué)就已經(jīng)取得了巨大的進(jìn)展，并開始準(zhǔn)備進(jìn)入試產(chǎn)，而在國產(chǎn)浸潤系統(tǒng)方面，我們也已經(jīng)開始投入運(yùn)營！

28nm！清華大學(xué)就國產(chǎn)光刻機(jī)正式發(fā)聲

在有了這些核心關(guān)鍵技術(shù)的突破以后，國內(nèi)就離先進(jìn)的光刻機(jī)更進(jìn)一步了；值得一提的是，最近我國清華大學(xué)就國產(chǎn)光刻機(jī)也正式發(fā)聲，清華大學(xué)方面應(yīng)邀發(fā)表了關(guān)于高端光刻機(jī)光柵定位與套刻測量技術(shù)的發(fā)展論文。其中清華大學(xué)方面表示：我國在14n以下工藝制程領(lǐng)域依然需要依賴國外進(jìn)口的光刻機(jī)，而這也就意味著國產(chǎn)光刻機(jī)已經(jīng)跨越了關(guān)鍵的28nm工藝門檻，而現(xiàn)在來看，這一切也似乎都已經(jīng)變成了現(xiàn)實！

要知道，在國產(chǎn)光刻機(jī)領(lǐng)域，我國的上海微電子很早就研發(fā)出了國產(chǎn)光刻機(jī)，像其研發(fā)的SSA600/20光刻機(jī)就使用了193納米的波長，最大分辨率為90nm；而前布局上海微電子方面也表示已經(jīng)突破了28nm光刻機(jī)技術(shù)；只不過我們一直都沒有看到量產(chǎn)，現(xiàn)在從清華大學(xué)方面的消息來看，關(guān)于國產(chǎn)光刻機(jī)，我們似乎已經(jīng)開始下探到了14nm技術(shù)，這也說明在28nm領(lǐng)域，我們已經(jīng)取得了成功，量產(chǎn)也只是時間問題！

倪光南院士沒說錯

在看到國內(nèi)光刻機(jī)市場快速發(fā)展起來以后，就連荷蘭ASML公司也開始加快了在中國市場的布局，如今中國市場已經(jīng)成為了ASML的最大市場，其市場份額高達(dá)34%，這也說明ASML正在加快在中國上次的發(fā)展，而這一切也都是因為我們國內(nèi)的光刻機(jī)發(fā)展的迅速，讓ASML也感覺到了壓力；而這也驗證了國內(nèi)院士倪光南所說的話：在核心技術(shù)領(lǐng)域，靠錢是買不來的，我們只有掌握了自主研發(fā)的核心技術(shù)，那么市場才會主動送上門來，如今我們已經(jīng)掌握了光刻機(jī)的相關(guān)技術(shù)，而ASML也很快就轉(zhuǎn)變了態(tài)度，不知道對此你是怎么看的呢？